321亿订单取消，中企投入首台国产光刻机，外媒：盖茨言之准确！

随着美国对芯片的管制，中国的半导体产业正处于转型之中，中国的半导体产业也逐渐走向了自我发展的方向。不但定下「七成」晶片自给的指标，让更多晶片由本土制造，上海微电子更增加了光刻机器的研究与开发，中公司亦有了第一个本土的「光刻机器」。一些外国媒体评论道：“比尔盖茨说的没错。”

中国是世界上最大的半导体生产基地，所以他们必须要从国外进口更多的半导体生产基地，才能保证他们对半导体的生产。

中国现在还没有能力大规模生产7纳米及之下的高端晶圆，生产的大多是14纳米，28纳米等成熟的晶圆制造技术。同时，随着人工智能，云计算，大数据等应用的不断深入，对其性能和能耗提出了更高的要求。

这就要求在一个成熟的集成电路市场上，有更多的集成电路和集成电路。中国芯片生产商中芯国际正致力于12吋的硅片生产能力，并从已有的成熟的硅片着手，大大增加了28nm的硅片出货量。

因为国产芯片已经可以自主生产，所以对于国外的芯片，也不会太过依赖。中国在一季度的IC产品进口量为一千八百二十二点九个百分点，与上年同期相比，也就是二百三十一亿的IC产品的进口量。

三百一十一亿枚晶片的订单，全部被终止，让国外的晶片巨头，更加难以赚钱。还有更多的证据显示，中国的晶片工业正逐步实现自我维持。

也就是在这个月的一季度，中企业迁入了国内的第一套光刻机，由昆山的同兴达迁出，投入到了一条新的流水线工程中。

上海微电子是目前中国仅有的一家拥有全套光刻机设备的企业，在前道光刻方面，上海微电子实现了90nm的批量生产。而上海微电子，则是一家能够生产2.5D、3D等高端封装设备的公司。

可能大多数人都不清楚，光刻机分为前后两条路。在生产集成电路的过程中，采用了前道光刻机与后道光刻机两种工艺。

前道光刻技术在集成电路的生产工艺中，主要应用在集成电路的生产工艺中，即把集成电路的图形投影到集成电路上，从而得到集成电路的图形。再由道光刻机在晶圆上刻蚀出图形，以构成晶圆上的线路。

前道光刻机对图像的分辨率、精确性提出了更高的要求，后道光刻机对图像的处理速率、腐蚀性能等提出了更高的要求。

相比而言，前道光刻机的制作更加困难，涉及到光学、机械、机械等多个专业的交叉融合，涉及到光学、光学、机械等多个专业的交叉融合。

荷兰ASML可以在5nm及以上的前道光刻技术上实现5nm及以上的高端工艺，目前国际上最顶尖的EUV光刻机都是供不应求。而国内目前主流的90nm工艺，依然处于批量生产阶段，后续发展潜力巨大。

中企引进的是国内的光刻机，用来做芯片的封测。但即便如此，对于国内的半导体产业来说，也是一件非常重要的事情。

由于采用了更高的芯片性能，更高的功耗，更高的可靠性，以及更小的芯片体积和更小的芯片成本。利用先进的封装技术，可以提高我国的集成电路产品在国际上的竞争能力，从而提高我国集成电路产品的质量，从而促进我国集成电路行业的发展。

所以，发展中国的集成电路，发展先进的封装技术是非常必要的。

美国对中国芯片的频繁制裁只能促使中国加速实现自我供给，这一点从中国停止了321亿枚芯片的进口，中公司开始使用第一个本土的光刻设备就能看出来。

一些外国媒体评论道：“比尔盖茨说的没错。”微软的创立者比尔盖茨长久以来曾表示，美国无法阻挡中国制造高性能的芯片，这些禁令将导致中国的经济发展更加自我，同时美国也将损失大量的高收入就业机会。

就像比尔盖茨说的那样，中国的芯片已经开始实现自我供给，美国科技界在一至五月份削减了十三万个工作岗位，而在整个美范围内，削减了四十一万多个工作岗位。如果美国政府继续采取这种做法，那么美企的收入和利益都会受到一定的冲击，失业的人也会越来越多，到那个时候，美国政府就算是哭着喊着也没用了。

美国公司必须向中国销售这些芯片，因为目前中国的大部分都是在本国制造的。即便是高端的芯片依然依赖于国外的技术，但当中国在这方面取得了突破性的进展，很多问题都会被解决。

比尔盖茨想要说服美国，但如果美国不听从他的话，那就是自食恶果。